正态分布标准差（SD）上也达到了极小的水平，约为0.05，显示出优于大多数商用光刻胶的性能。更为难得的是，该光刻胶在光刻显影各步骤所需时间上完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求，这意味着它具备了从实验室走向生产线的实力。

这一技术的突破，不仅为解决光刻制造的共性难题提供了明确的方向，也为极紫外线光刻机光刻胶的开发奠定了技术基础。在全球半导体产业竞争愈发激烈的今天，