在全球科技竞赛的赛道上，半导体行业一直是各国争夺的焦点。近日，来自华中科技大学的消息引起了业界的广泛关注：该校与湖北九峰山实验室组成的联合研究团队在光刻胶技术上取得了重大突破。这一成就不仅标志着中国在纳米级半导体制造领域迈出了坚实的一步，也为全球半导体行业的发展注入了新的活力。

光刻胶作为半导体制造的关键材料，其性能直接影响到集成电路的电性能、成品率及可靠性。然而，随