半导体技术发展路线图原文，压根没有这句话，连类似的话也没有...

相反，按照当时的记载，1999年那会儿关于下一代光刻技术的猜想有四个，分别是157nm F2激光，电子束投射(EPL)，离子投射(IPL)以及EUV和X光，因为EUV属于软X光，所以和X光的研究算在一个领域。

当时研究全球研究EUV的企业和机构确实超过200家，但研究157nm F2激光的企业和机构超过3