对盛明安和陈惊G说：“光源系统设备验收通过,IC设计部正在攻破20n以下的鳍式场效应晶体管工艺,尽量保证我们能够生产出135n工艺以上更高精度的芯片。”

鳍式场效应晶体管是一种防止因高精度工艺而导致晶体管失去开关作用而发明的工艺,采用3D立体晶体管架构，突破芯片晶体管的22n工艺极限,不&nj;直接作用于光刻机,而是IC设计工程师必须掌握的一项核心技术。

陈惊G：“那就交给你了