8英寸
7.描电镜分辨率:小于02nbr/>
主要特点:
1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪;
2.出色的电子束偏转控制技术;
3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率可达00002n
4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0002ad;
5.应用领域广泛,如
微纳器件加工,研究用掩膜制造,纳米加工(例
第438章 光刻机项目:另辟蹊径(7 / 28)
8英寸
7.描电镜分辨率:小于02nbr/>
主要特点:
1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪;
2.出色的电子束偏转控制技术;
3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率可达00002n
4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0002ad;
5.应用领域广泛,如
微纳器件加工,研究用掩膜制造,纳米加工(例