的技术专利保护范围。

因此，他只能寻找另外光种的光刻机，同时要考虑到光的分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等指标。

就说分辨率，如果制作出来的电路图模糊不清，那芯片肯定不好。

光刻机其它的指标，也可以比喻成画笔的性能就行了。

并不是说，沐阳不能搞光刻机了，只是说，再搞DUV和EUV光刻机，绕不开以上三家企业的技术专利保护范围。