第479章 光刻机研发新任务(8 / 22)

齐聚一堂,讨论解决EBL光刻机的问题。

郝强给项目组定下了一个极具挑战性的目标:半年内将工艺制程优化到7nm,实现量产7nmEBL光刻机。

EBL光刻机只搞出14nm,有点大炮打蚊子的感觉。

当然,要是同行知道郝强的想法,肯定被打击了。

他们还在努力突破28nm光刻机的量产技术,郝强已经看不上14nm光刻机了。