我们这边的相关实验数据,也会安排人给你们送过去。”
“……”
挂完电话后,刘兴东整个人都还是懵的。
正常来说,从硅片变成晶圆,需要经过湿洗、光刻、离子注入、干蚀刻、湿蚀刻、等离子冲洗……
然后就是这次硅片出问题的环节:热处理!
而热处理,又分为快速热退火和退火。
快速热退火,就是使用大功率照射灯,把刻好的晶圆,瞬间照射到1200摄氏度,然
第65章 技术层面的碾压(2 / 17)
我们这边的相关实验数据,也会安排人给你们送过去。”
“……”
挂完电话后,刘兴东整个人都还是懵的。
正常来说,从硅片变成晶圆,需要经过湿洗、光刻、离子注入、干蚀刻、湿蚀刻、等离子冲洗……
然后就是这次硅片出问题的环节:热处理!
而热处理,又分为快速热退火和退火。
快速热退火,就是使用大功率照射灯,把刻好的晶圆,瞬间照射到1200摄氏度,然