就是功率足够强，不然的话，华国也不可能在光源上实现不了突破，毕竟方法都知道，不可能造都造不出来。

而x光刻机就不同了，因为是直写式，不需要经过镜片折射，所以根本不用担心光源功率不足的问题，反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点，反倒会影响到最终的效果。

当然，x光优点很多，但同样也有缺点。

那就是相比较euv光刻机来说，光刻效率比较低，在实现大规模生产上比较困难，这也是为