1993年9月，0.5微米工艺制程的国产光刻机研发成功，并且，已经一开始小规模的推广。当然了，一开始仅有新创业半导体公司和骊山半导体公司，两家公司各自购买了一台。这倒不是因为0.5微米光刻机昂贵的问题，更关键的是，0.5微米的光刻机的产能还是比较慢的。宣布研发成功时，一共三台，一台是内部继续改进使用，一台卖给了骊山半导体，一台卖给了新创业半导体。

之后，预计两个月能生产一台0.5