候。

国内光刻机并不算太差，1980年就有大学研制出第四代分部式投影光刻机，光刻精度达到三微米，接近国际主流水平。

而那时，光刻机巨头asl还没诞生。

后来研发更先进的光刻机的门槛慢慢增加，对资金方面的需求也越来越多。

因为种种原因，现如今国内的半导体行业已经彻底落后，尤其是尖端半导体，排在前列的公司名单里，几乎看不到内地企业的身影。

倪老先生从那